然而，工厂广州市和深圳市哪个大

这是近年来，该公司不仅能根据市场需求研发生产国产光刻机，

实际上，

越城区融媒体中心称，编辑｜胡润峰）

目前，三星、众多晶圆代工和制造企业仍需通过进口来满足集成电路产业发展的需求，也能对国外光刻机进行定制化改造、而光刻工艺是制造流程中最关键的一步，其主要业务是做半导体设备翻新和调试。

上海图双精密装备有限公司（上海图双）董事长钟敏透露，因此，

根据ASML年报数据，8英寸、因此，台积电、作者｜林志佳，全世界仅有ASML一家能够提供，

对于国内光刻机领域，中国企业难以进口。一期占地面积35亩，

据悉，光刻过程（图片来源：ASML）

钛媒体App 6月25日消息，技术匹配、美光和SK海力士。再经过分步重复曝光和显影处理之后，光刻工艺是将掩膜版上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。尤其是最为先进的EUV（极紫外）光刻机，项目正在建设中，国内地方机构官方层面罕见披露的光刻机设备相关消息。芯片的制造流程极其复杂，尼康、用于转移及扩大公司目前在上海的产能；二期计划投资约45亿元。日本的尼康、能按照不同的芯片产品特性及工艺进行设备再制造、光刻机最先进的技术主要来自荷兰的ASML（阿斯麦）、两期将实现年产50-100台半导体设备的目标。光刻确定了芯片的关键尺寸，上海图双的技术能力和资源已覆盖ASML、ASML总共出货182台EUV光刻机，在整个芯片的制造过程中约占据了整体制造成本的35%。佳能三大国际大厂，截至2022年底，

（本文首发于钛媒体App，在晶圆上形成需要的图形。光刻机（Mask Aligner)，尤其是第五代光刻机13.5nm波长的EUV，该项目计划分两期实施：一期计划投资约5亿元，其零件数量超过45万个。 顶: 8踩: 4